抛光工艺是为了将硅片的表面打磨到光亮的镜面状态,并进一步提升硅片的平整度(Flatness)。抛光时,硅片放置在支撑盘上,通过挤压贴合于抛光盘(Polishing Plate)上的抛光布(Polishing Cloth)。
直径200mm(8英寸)及以下尺寸的晶圆通常采用单面抛光,直径300mm及以上尺寸的晶圆多半是双面抛光,但这并非绝对的工艺方式,多半还是取决于客户的需求。
如前述研磨工序类似,晶圆片固定在上下盘之间,上、下抛光盘同时对晶圆片的正面和背面进行抛光。抛光液和抛光压力大小决定了最终抛光的质量和平整度。